晶体管_晶体管资源-CSDN文库网友收藏

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资源浏览查阅132次。晶体管,作为集成电路的基本电子组件,晶体管的大小40多年来一直在缩减。在我们的90-nmCMOS工艺中,我们面临着严峻挑战,需要制造门长度不足40nm的晶体管。要求我们实现的光刻与蚀刻控制,以保证整个晶圆上数十亿之多的晶体管的特性保持一致。半导体行业中一批的研发精英正在TI为此而努力工作。我们还将成功解决65nm工艺产生的新难题,正像我们已经解决了许多前代高性能工艺的缩放问题一样。除了工艺控制之外,新的材料也有助于推动先进的晶体管技术。与1nm或较低栅极氧化层(gateoxide)相当的情况下,我们需要新型高K电介质来代替传统的硅氧化层。基于铪的材料可实现栅极介质更多下载资源、学习资料请访问CSDN文库频道...
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